გრავირების ტექნოლოგია
სპეციალურად შექმნილი მაგნიტური ველი, რომელიც თანაბრად აკრავს ნიმუშის სისტემას
გრავირების შესანიშნავი ერთგვაროვნება
კარგი დიფრაქცია
რეგულირებადი გრავირების სიძლიერე
გრავირებული მოდულები არ საჭიროებენ მოვლას
რკალური იონური მოოქროვება (AIP)
მაღალი იონიზაციის მაჩვენებელი
მაღალი სიმკვრივე
მაღალი დეპონირების მაჩვენებელი
ბევრი მიკრონაწილაკი
უხეში ზედაპირი
G4 ინტეგრირებული კათოდი
მაღალი იონიზაციის მაჩვენებელი
მაღალი სიმკვრივე
მაღალი დეპონირების მაჩვენებელი
გლუვი ზედაპირი, მიკრონაწილაკების გარეშე
დაბალი ნარჩენი სტრესი
მაგნეტრონული გაფრქვევა (MS)
გლუვი ზედაპირი, მიკრონაწილაკების გარეშე
დაბალი ნარჩენი სტრესი
დაბალი დეპონირების მაჩვენებელი
დაბალი იონიზაციის მაჩვენებელი
PECVD საფარის ტექნოლოგია
პლაზმურად გაძლიერებული ქიმიური ორთქლის დალექვის (PECVD) პროცესია, რომლის დროსაც ხდება უკიდურესად გლუვი, წებოვანი ამორფული ალმასის მყარი შენადნობის საფარის დატანა მაღალი ვაკუუმის გარემოში. PVD პროცესებთან შედარებით, PECVD პროცესები იყენებს ღრმად მოპირკეთების დენის წყაროებს, არ საჭიროებს კათოდური სამიზნეების გამოყენებას და სამუშაო ნაწილს არ სჭირდება ბრუნვა ღუმელის კამერაში. ეს პროცესი არის სუფთა, დაბინძურებისგან თავისუფალი, საიმედო და მრავალფუნქციური საფარის პროცესი.
● მარტივი აპარატურა, დამატებითი იონიზაციის წყარო არ არის საჭირო
● კომპოზიტური მაგნიტური ველის დიზაინი, იონიზაციის სიჩქარის გაზრდა
● მაღალი დეპონირების სიჩქარე> 1μm/სთ
● დაბალი დალექვის ტემპერატურა
● გლუვი ზედაპირი, დიდი მიკრონაწილაკების დაბინძურების გარეშე
● პლაზმური საწმენდი საშუალებები, მოვლა-პატრონობის გარეშე
არათანაბარი დახურული მაგნიტური ველის სიმულაცია
მაღალი სიმკვრივის პლაზმა
პლაზმური საწმენდი საშუალებები
PECVD (aC:H-სთვის)
ნაწილების ცვეთამედეგობის, შეზეთვის, კოროზიისადმი მდგრადობისა და მაღალი შეერთების სიმტკიცის მოთხოვნებიდან გამომდინარე, DLC საფარი სტრუქტურულად შექმნილია მრავალშრიანი სტრუქტურის, გრადიენტული გადასვლისა და ინტერფეისის კომპოზიტის კონცეფციის საფუძველზე.
DLC საფარის სტრუქტურა
სისქე 2-4μm (დამოკიდებულია სხვადასხვა მოთხოვნაზე)